高普考題庫
115 年 115年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・機械製造學概要
申論 5請依據光阻的作用;曝光與光罩關係;顯影的目的;解析度與線寬對製程的影響;微影製程失敗對良率的影響,說明光阻塗佈/曝光/顯影等「微影製程」在半導體製程中的功能與重要性。(20 分)