98 年 098年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程 申論 7一層厚度100 nm 的矽薄膜，如果要用氧化的方式，將Si 厚度減薄到50 nm，請問需要成長多厚的氧化層？（10 分） 看答案與解析