110 年 110年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程 申論 5㈠和化學氣相沉積（atomic layer deposition, ALD）技術相比較，請說明原子層沉積技術的優點與缺點。（10 分）㈡請解釋電遷移（electromigration）現象，並說明如何改善此現象。（10 分） 看答案與解析