高普考題庫
103 年 103年公務人員高等考試三級考試暨普通考試・半導體工程
申論 5說明離子佈植(ion implantation)的基本原理。以離子佈植植入雜質的方法與擴散法比較有何優點?離子佈植後為何需要熱處理?說明離子佈植的通道效應(channeling effect),舉出一種消除的方法。(15 分)